快报讯（通讯员 林静 记者 刘伟娟）10月17日，第三届国际先进光刻技术研讨会在南京召开。来自中国、美国、德国等名企、厂商、科研机构、高校共计400余名技术专家和学者参会，分享最新的技术成果。

  会议由集成电路产业技术创新联盟和中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、浦口高新区和浦口区科学技术局承办。本届大会延续往届风格，已成为共享国内外先进光刻技术研发成果，促进中国集成电路制造技术研发与应用，开展合作与交流的高端峰会。来自Intel、IBM、Mentor等公司的专家做了特邀报告，深入分析了光刻领域先进节点最新的技术手段和解决方案。

  目前，南京市已明确了集成电路产业的总体布局，即 “一核、两翼、三基地”。“一核”指以江北新区为核心，重点打造具有国际影响力的集成电路产业基地。而浦口区便是这“一核”的重要载体。近年来，在集成电路方面，浦口已集聚总投资30亿美元的台积电、800亿元的清华紫光、80亿元的天水华天等产业链上下游关联企业169家，初步形成设计、制造、封装、测试的全产业链闭环，成功创建“江苏省集成电路产业基地”。

  今年1—9月，浦口全区集成电路产业实现产值30.5亿元，同比增长89.9%，实现营收28亿元，同比增长84%。“预计到2025年集成电路产业将打造成千亿级产业集群。”浦口区相关负责人表示。